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      法柯特科技(江苏)有限公司深入掌握先进的镀膜技术和溅射技术。
      PVD是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。是由汽化形成所需的膜材料(在溅射靶)凝结到基板(玻璃板,薄膜太阳能电池等)。该涂层技术包括纯粹的物理过程,冷凝或等离子溅射轰击高温真空蒸发,而不涉及化学反应在表面化学气相沉积。
      工作时,溅射沉积,辉光等离子体放电(局部目标周围的磁?。┖浠鞑牧辖ι渥魑迳系乃婧蟮某粱?。在真空环境下,通过电压和磁场的共同作用,以被离化的惰性气体离子对靶材进行轰击,致使靶材以离子、原子或分子的形式被弹出并沉积在基件上形成薄膜。根据使用的电离电源的不同,导体和非导体材料均可作为靶材被溅射。
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