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    • 溅射靶材
    • 2017/2/10 阅读次数:[1493]
    •   磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,2013年的蒸发镀膜方式,其很多方面的优势相当明显。
        作为一项已经发展的较为成熟的技术,磁控溅射已经被应用于许多领域。
      溅射技术
        溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。
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